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低溫等離(lí)子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置

低(dī)溫等離(lí)子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降(jiàng)解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢(shì)
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述

低溫等(děng)離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的(de)汙染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物(wù)的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先(xiān)廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放(fàng)電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多(duō)鏈廢氣分子由於鍵能較弱(ruò),約束力較小(xiǎo)。很容易被擊穿化(huà)學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為(wéi)第一階段(duàn)淨化。

其次,隨廢氣進入設備的(de)水(shuǐ)分子(zǐ)、氧(yǎng)分子(zǐ)被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快(kuài)反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能(néng)量,促(cù)使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理(lǐ)的汙染物降解為(wéi)較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子(zǐ)體化(huà)學(xué)反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出(chū),電子先從電場獲得能量(liàng),通過激發(fā)或電離將(jiāng)能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的(de)汙染物分子被激發,同時有部(bù)分分子被電離(lí),從而成為(wéi)活(huó)性基團。然後(hòu)這些活(huó)性基團與氧氣、活性基團與活性基團(tuán)之間相互(hù)碰撞後生成穩定產物和熱(rè)。

另外,高能電子也(yě)能被鹵素和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學(xué)反應中起著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質(zhì)阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量(liàng)高,幾乎可以和所有的(de)惡(è)臭氣(qì)體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采(cǎi)用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決(jué)了(le)設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電(diàn),操作簡單,無需(xū)派專職人員看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥(yào)廠、印刷廠、造紙廠、飼(sì)料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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