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低溫（wēn）等離（lí）子（zǐ）除臭設備

低溫等離（lí）子除臭設備（bèi）

低溫等離子除臭設備（bèi）是（shì）利用（yòng）這（zhè）些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作（zuò）用，使汙染物分子在短的時間內發生分解，以達到降解汙染物的目的的一種環（huán）保（bǎo）設備。

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產品概述
技（jì）術原理
性能優勢（shì）
適用範圍

產品概（gài）述 Product description

低（dī）溫等（děng）離子除臭設備是（shì）利用這些高能電子、自由基等活性粒子（zǐ）和廢氣中的（de）汙染物作用，使汙染（rǎn）物分子在短的時間內發生分解，以達到降解汙染物的目的的一（yī）種環保設備。

技術（shù）原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉（mián）進（jìn）入設備時，由設備高（gāo）壓穩定高頻放電，瞬間產生（shēng）1.5萬伏特至2萬伏（fú）特高壓，擊穿廢氣。此階（jiē）段中，長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱，約（yuē）束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂，從而變成小分子化合（hé）物，此為第一階段淨化。

其次，隨廢氣進入設（shè）備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷（duàn）裂，生成強氧化基（jī）團羥基、臭氧（yǎng）分子等。這（zhè）些強氧化基團與廢（fèi）氣分子充分接觸氧化，加快反應進程（chéng）。整個反應幹淨，能量利用率高，淨化效率（lǜ）非常高。

等離（lí）子功能段可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物（wù）分子的分（fèn）子鍵斷裂重組，使（shǐ）難處（chù）理的汙染物降解（jiě）為較易處理的低碳（tàn）汙染物。

等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離子體反（fǎn）應過程可以看出，電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到汙染（rǎn）物分子（zǐ）中去，那些獲得能量的汙染物分子被激發，同（tóng）時有部分分子被電離，從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另（lìng）外，高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力（lì）較強的物質俘獲，成為負離子。這類負離子具有（yǒu）很好的化學活性，在化學反應中起著重要的作用。

性能優（yōu）勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電（diàn）極與廢氣（qì）不直接（jiē）接觸，根本上解（jiě）決了設備腐蝕（shí）問題；
04

隻需用電（diàn），操作簡單（dān），無需派專職人員看守，基本（běn）不占用人工費；
05

設（shè）備啟動、停止（zhǐ）十分迅速，隨用隨開，不受氣溫的影響。

適用範（fàn）圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施，以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮（pí）革廠、石油（yóu）化工、農藥（yào）廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

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