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低溫等離子除臭裝置

低溫（wēn）等離子（zǐ）除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等（děng）活性（xìng）粒子和廢氣中的汙染物作（zuò）用（yòng），使汙染物分子在短的時間內發（fā）生分解，以達到（dào）降解汙染物的目的的一種環保設備。

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產品概述
技術原理
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產品概述 Product description

低溫（wēn）等（děng）離子除臭設備是利用這些高能電（diàn）子、自（zì）由基等活性粒（lì）子和廢氣中的汙染物作用，使汙染物分子在短的時間（jiān）內發生分解，以達（dá）到降解汙染物的目（mù）的的一種（zhǒng）環保設備。

技術原理 technology principle

　　首（shǒu）先廢氣經均流板過濾棉進入設備時，由設（shè）備高壓穩（wěn）定高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特（tè）至2萬伏特高（gāo）壓（yā），擊穿廢氣。此階段中，長鏈（liàn）、多（duō）鏈廢氣（qì）分子由於鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂，從而變成小分子化合物，此為第一（yī）階段淨化。

其次，隨廢氣進入設備的水分子、氧分（fèn）子被高壓擊穿斷裂，生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些（xiē）強氧化基團（tuán）與廢（fèi）氣分子充分接觸氧化，加快反應（yīng）進程。整個（gè）反應幹淨，能量利用率高，淨化效率（lǜ）非常高。

等離子（zǐ）功（gōng）能段可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處（chù）理的汙染物降（jiàng）解（jiě）為（wéi）較易處理（lǐ）的低碳汙染物。

等離子體化（huà）學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離（lí）子體反應過程可以看出，電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量（liàng）轉移到汙染物分子中（zhōng）去，那些獲得能量的汙染（rǎn）物分子被激發，同時有部分分（fèn）子被電離，從而（ér）成為活性基團（tuán）。然後（hòu）這些活（huó）性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外，高能電子也能被鹵素和氧（yǎng）氣等電子親和力較強的物質俘（fú）獲，成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中起著重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的低溫等離子體中（zhōng），電子能量高，幾乎可（kě）以和所有的惡臭氣體分子作用;
02

反應快，不受氣速限製（zhì），氣阻小，工藝（yì）成熟；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接（jiē）接觸，根本上解決了（le）設備腐蝕問題；
04

隻需用電，操作簡單，無需派專（zhuān）職人員看守，基本不占用人工費（fèi）；
05

設備啟動、停止十分迅（xùn）速，隨用隨開，不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水（shuǐ）廠（chǎng）等市政設施，以及製藥廠、油（yóu）漆廠、塗料廠、皮革廠（chǎng）、石油（yóu）化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料（liào）加工廠等（děng）等工業場所。

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