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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒(lì)子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時(shí)間內發生分解(jiě),以達到降解汙染(rǎn)物的目(mù)的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性(xìng)能(néng)優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產(chǎn)品概述

離子除臭設備是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內(nèi)發生(shēng)分解,以達(dá)到降解汙染(rǎn)物的目的的一種環保(bǎo)設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設(shè)備時,由設備高壓(yā)穩(wěn)定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏(fú)特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易(yì)被擊穿化學(xué)鍵破(pò)裂,從而(ér)變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進(jìn)入設備的水分(fèn)子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧(yǎng)化基(jī)團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加(jiā)快(kuài)反應進程(chéng)。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率(lǜ)非常高。

等離子功能段(duàn)可以激發汙染物(wù)能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的(de)分子鍵斷裂重組,使難處(chù)理的汙染物降解(jiě)為較(jiào)易處(chù)理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等離子體(tǐ)反應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過激發或(huò)電離將能量(liàng)轉移到汙染物分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從(cóng)而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活(huó)性基團(tuán)之間相互碰撞後生成穩定產物和熱(rè)。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電(diàn)子親和力較強的物質俘獲,成為負離(lí)子。這類負離子具有很好的(de)化學(xué)活性,在化學(xué)反應中起著重(chóng)要的(de)作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣(qì)體分子(zǐ)作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采(cǎi)用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接(jiē)接觸(chù),根本上解(jiě)決了設備(bèi)腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作(zuò)簡單,無(wú)需派專職人員看守(shǒu),基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟(qǐ)動、停止(zhǐ)十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工(gōng)、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠(chǎng)、飼料加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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