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等離子除臭設備

等離子除臭(chòu)設備

等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活(huó)性粒子和廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙(wū)染物分子在短的時間內發生分解,以達到降(jiàng)解汙(wū)染物的目的的一種(zhǒng)環保(bǎo)設備。
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  • 產品概(gài)述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概(gài)述 Product description

產品概述

等離子除臭設備(bèi)是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。




技術原理 technology principle

產品概(gài)述

  首先廢氣(qì)經均(jun1)流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬(wàn)伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分(fèn)子由(yóu)於鍵(jiàn)能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂,從而(ér)變成(chéng)小分子化合物,此為第一階段(duàn)淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化(huà)基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與(yǔ)廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程(chéng)。整個反應幹淨,能量利用率高(gāo),淨化效率非常高。

等(děng)離子功(gōng)能段(duàn)可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染物。








等離子體化學(xué)反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體(tǐ)反應過程可以看出,電子先從(cóng)電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同(tóng)時有(yǒu)部分(fèn)分子被(bèi)電離,從而成為活性基團。然後這些活性基(jī)團與氧氣、活性基團與活(huó)性基團之間相互碰撞後(hòu)生成穩定產物和熱。

另外,高能(néng)電子也能(néng)被鹵素和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要(yào)的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質(zhì)阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用(yòng)防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無需派專職(zhí)人員看守,基本不占(zhàn)用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十(shí)分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥廠(chǎng)、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工(gōng)、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼(sì)料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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