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等離子除臭裝置

等離子除臭裝置（zhì）

等離（lí）子除臭裝（zhuāng）置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣（qì）中的汙染物作（zuò）用，使（shǐ）汙染物分子在短的時間（jiān）內發（fā）生分解，以達到降解汙染物的目（mù）的的一種環保設備。

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產品概述 Product description

等（děng）離子除臭裝置（zhì）是利用這些（xiē）高能電子、自（zì）由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用（yòng），使汙染物分子在短的時間內發生（shēng）分解，以達到降解汙染物的目的的一種（zhǒng）環（huán）保設備。

技術原理（lǐ） technology principle

　　首先廢氣（qì）經（jīng）均流板過濾棉進入設備時，由設備高壓穩定高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬（wàn）伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較（jiào）弱，約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂，從而（ér）變成小分子化合物，此為第一（yī）階段淨化。

其次，隨廢氣進入設備的（de）水分子（zǐ）、氧（yǎng）分子被高壓擊（jī）穿斷裂，生成強氧（yǎng）化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充（chōng）分（fèn）接觸氧（yǎng）化，加快（kuài）反應進程。整個反應（yīng）幹（gàn）淨，能量利用率高，淨化（huà）效率非常高。

等離子功能段可（kě）以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙（wū）染物分子的分子鍵斷裂重（chóng）組，使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。

等離子體化（huà）學反應過程 Plasma chemical reaction process

從等離子體反應過（guò）程可以看出，電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去，那些獲得能量的汙染物分子被激發，同時有部分分子（zǐ）被電離，從而成（chéng）為活性基團。然（rán）後這些活性基團與氧氣、活性基團與活（huó）性基團之間相互碰（pèng）撞後生成穩定產物和熱。

另外，高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲，成為負離子。這類負（fù）離子具有很好（hǎo）的化學活性，在化學反應中起著重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放（fàng）電產生的低（dī）溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;
02

反（fǎn）應快，不（bú）受（shòu）氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電（diàn）極（jí）與廢氣不直接接觸，根本上解決了（le）設備腐蝕問題；
04

隻需用電，操作簡單，無需派（pài）專職人員看守，基（jī）本不占用人工費；
05

設備啟動、停止十分迅速（sù），隨用（yòng）隨開，不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施，以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油（yóu）化工、農藥廠、製藥廠（chǎng）、印刷（shuā）廠、造（zào）紙廠、飼料（liào）加工廠等等工業場所。

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