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離子除(chú)臭設備

離(lí)子除臭設備

離子除(chú)臭設(shè)備是利用這些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用(yòng),使汙染物分子在短的時(shí)間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子除臭設(shè)備是利用(yòng)這些(xiē)高能電子、自由基等活性粒(lì)子和廢氣中的汙染物作用,使(shǐ)汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降(jiàng)解汙染(rǎn)物(wù)的目的的一種環保設備(bèi)。




技術原(yuán)理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板(bǎn)過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被(bèi)擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子(zǐ)、氧(yǎng)分子被高壓擊(jī)穿(chuān)斷裂,生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基(jī)團(tuán)與(yǔ)廢氣(qì)分子(zǐ)充分接觸氧化,加快反(fǎn)應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能(néng)段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分(fèn)子的分子鍵斷裂重組,使難(nán)處(chù)理(lǐ)的汙染物降解為較(jiào)易處理的低(dī)碳汙染物。








等離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移(yí)到汙染物分子中去,那些獲得能量的(de)汙染物分子(zǐ)被激(jī)發,同時有(yǒu)部分分子被電離,從而成為活性基團。然後(hòu)這些活(huó)性基團與氧氣、活性基團與(yǔ)活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素和氧氣等電子親和力(lì)較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子(zǐ)。這類負離(lí)子具有很好的化學活性,在化學反(fǎn)應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋放(fàng)電產生的低溫等離子(zǐ)體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速限製,氣(qì)阻小(xiǎo),工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解(jiě)決了設備腐(fǔ)蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員(yuán)看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停(tíng)止十分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油(yóu)化工、農藥(yào)廠、製藥廠(chǎng)、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光(guāng)解廢氣淨化(huà)設備適用(yòng)範圍

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