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離子除臭(chòu)裝置

離子除臭裝置

離子除臭裝置(zhì)是利用這些高能電子、自由基(jī)等(děng)活性(xìng)粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短(duǎn)的時間內發生分解(jiě),以達到(dào)降解汙染物的目(mù)的的一種環保設備。
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  • 產(chǎn)品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範(fàn)圍

產(chǎn)品概述 Product description

產品概述

離子除臭裝置是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染(rǎn)物分子在(zài)短的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的(de)的(de)一種環保設備。




技術(shù)原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均流板過濾(lǜ)棉進入設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水(shuǐ)分(fèn)子、氧分子被高壓擊穿(chuān)斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化(huà)基團與廢氣分(fèn)子充分接觸氧化(huà),加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高(gāo),淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能(néng)量,促使長鏈、多鏈汙染(rǎn)物分子的(de)分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為(wéi)較易處理的低碳汙(wū)染物。








等離(lí)子體化學反應過程(chéng) Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等(děng)離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將(jiāng)能量轉移到(dào)汙染物分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染(rǎn)物分子(zǐ)被激發,同(tóng)時有部(bù)分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與(yǔ)氧氣、活性基團與活性基團之間相互(hù)碰撞後生成穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和力較(jiào)強的物質俘獲,成(chéng)為負離子。這類負(fù)離子具有很好的化學活(huó)性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋(dǎng)放(fàng)電產生的低溫等離(lí)子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根本上解(jiě)決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分(fèn)迅速(sù),隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥廠、油漆廠、塗(tú)料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工(gōng)業場所(suǒ)。

UV光(guāng)解廢氣淨(jìng)化設備適用範(fàn)圍

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