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低溫等離子除臭裝置

低溫（wēn）等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置是（shì）利用這些高能電子、自由基（jī）等活性粒子和廢氣中的汙染（rǎn）物作用，使（shǐ）汙（wū）染物分子在短的時間內發生（shēng）分解（jiě），以達到降解汙染物的目的的一種環（huán）保設備。

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產品概述
技術（shù）原理
性能優勢
適用（yòng）範圍

產品概（gài）述 Product description

低溫等離子除臭設備是（shì）利用這些高能電子、自由基等（děng）活性粒子和廢氣中的汙染物作用，使汙染物分子（zǐ）在短的時間內發生分解，以達到降解汙染物的（de）目的的一種環保設備。

技術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時，由設備高（gāo）壓穩定高頻放電，瞬間產生1.5萬（wàn）伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長（zhǎng）鏈、多鏈廢（fèi）氣分子由（yóu）於鍵能較弱，約束力較小。很容易（yì）被擊穿化學鍵破裂（liè），從（cóng）而變（biàn）成小分子化合物，此為（wéi）第一階段淨化。

其次，隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生（shēng）成強氧化基團羥基、臭氧分子（zǐ）等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應進程。整個反應幹淨，能（néng）量利用率高，淨化效率非常高。

等（děng）離子功能段可以激發（fā）汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分（fèn）子的分子鍵斷裂重（chóng）組，使難處理的汙染物降（jiàng）解為較易處理的低碳汙染（rǎn）物。

等離（lí）子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process

從（cóng）等離子體反應過程可以看（kàn）出，電子（zǐ）先從電場獲得能量，通過激發或（huò）電離將能量轉移到汙染物分子中（zhōng）去，那些獲（huò）得能量的汙染物分子被激發，同時有部分分子被（bèi）電離，從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性（xìng）基團與活性基團之間相互碰撞後（hòu）生成穩定產物和（hé）熱。

另外，高能電（diàn）子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲，成為負離子。這類負離子具（jù）有很好的化學（xué）活性，在化學反應中起（qǐ）著重要的作用（yòng）。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產（chǎn）生的低溫（wēn）等離子體中（zhōng），電子能（néng）量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子（zǐ）作用;
02

反應快，不受氣速限（xiàn）製（zhì），氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐（fǔ）蝕材料，電極與廢氣不（bú）直接接觸，根本上解決了設備（bèi）腐蝕問（wèn）題；
04

隻需用電，操作簡單，無需派專職人員看守，基本不占用人工（gōng）費；
05

設備啟動、停止十分（fèn）迅速，隨用隨開（kāi），不（bú）受氣溫的（de）影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施（shī），以及製（zhì）藥廠、油（yóu）漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造（zào）紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

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