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低溫等離子除臭(chòu)設備

低溫(wēn)等離子除臭設備(bèi)

低溫等離子(zǐ)除臭設備是利用(yòng)這些高能電子、自由基等(děng)活性粒子和廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染(rǎn)物(wù)的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性(xìng)能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述(shù)

低(dī)溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由(yóu)基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染物的目的的(de)一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由(yóu)設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿(chuān)廢氣(qì)。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵(jiàn)能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而(ér)變成小分子化合物(wù),此為(wéi)第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧(yǎng)分子被高壓(yā)擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這(zhè)些強氧化基團與廢氣分子充分(fèn)接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率(lǜ)非(fēi)常高。

等離子功能段可以激發汙染(rǎn)物(wù)能量,促使(shǐ)長鏈(liàn)、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙染物降解為較易處(chù)理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量(liàng)轉移到汙染物分(fèn)子(zǐ)中去,那些獲得能量的汙染物分(fèn)子被激發(fā),同時有部分分子被(bèi)電離(lí),從而成為活性基團(tuán)。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能(néng)被鹵素和氧氣等電子親和(hé)力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負(fù)離子具有很好的化學活性,在(zài)化(huà)學反應中(zhōng)起著重(chóng)要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體(tǐ)中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不(bú)直接(jiē)接觸,根本上解決了設備腐蝕問題(tí);

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡單,無需派專職人員(yuán)看守,基(jī)本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用(yòng)隨開,不受氣(qì)溫的影響。

適用(yòng)範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以(yǐ)及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等(děng)工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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