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離子除臭設備

離子除臭(chòu)設備

離子除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品(pǐn)概述(shù)
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子除臭設備是利用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品概述(shù)

  首(shǒu)先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備(bèi)高壓穩定高頻(pín)放電,瞬間產生1.5萬(wàn)伏特至2萬伏(fú)特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由於鍵(jiàn)能(néng)較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵(jiàn)破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段(duàn)淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓(yā)擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充(chōng)分接觸氧化,加快反(fǎn)應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效(xiào)率非(fēi)常高。

等(děng)離子功能段可(kě)以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙(wū)染物分子的分子鍵斷裂(liè)重(chóng)組,使難處理的汙染物降(jiàng)解為較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子體化(huà)學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應(yīng)過程可(kě)以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去(qù),那些獲得能量的汙染(rǎn)物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而(ér)成為活性基團。然(rán)後這些活性基團與氧氣(qì)、活性基團與活性基團之(zhī)間相互碰撞後生成穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物(wù)質俘獲,成為(wéi)負離子。這類負離子具有很好的化學活(huó)性,在化(huà)學反應中起著重要的作用。






性能優(yōu)勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋放電產生的低溫等離子體中,電(diàn)子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作(zuò)用;

  • 02

    反應快,不受氣速(sù)限(xiàn)製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防(fáng)腐蝕材料,電極與(yǔ)廢氣不直接接觸,根(gēn)本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作(zuò)簡單,無需派專職(zhí)人員看守,基本不占用人(rén)工(gōng)費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠(chǎng)、皮革廠(chǎng)、石油(yóu)化工、農藥廠(chǎng)、製藥廠(chǎng)、印刷廠(chǎng)、造紙廠(chǎng)、飼料(liào)加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用(yòng)範圍

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