1.半導體工廠（chǎng）廢氣（qì）簡述

隨著科技的飛速發展，半導體在各個領（lǐng）域的應用越來越廣泛，如智能手機、電腦、汽車等。然而半導體工廠在生產（chǎn）過（guò）程中（zhōng）會產生大量的廢（fèi）氣汙染物，主要為酸性氣體、堿性（xìng）氣體（tǐ）、有機廢氣等汙染物（wù）。如果這些廢氣不經過有效的處理，直接排放到大氣（qì）中，不（bú）僅（jǐn）對環境造成嚴重的汙染，還會（huì）對人體健（jiàn）康造成傷害。因此，需要對半導體工廠廢氣進（jìn）行淨化處理後達標排放。

2.半導（dǎo）體工廠廢氣處理（lǐ）方法

半導體工廠在生產過程中會產生廢氣，主要為酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣（qì）等廢氣汙染物。酸性氣體采用堿液噴淋洗滌法處理（lǐ），堿性氣體采用酸液噴淋洗滌法處理，而對於有機廢氣處理方法有很多種，常見（jiàn）主要有活性炭吸附法（fǎ）、燃燒法、UV光解淨化法等，接下來，天浩（hào）洋環保小編（biān）詳細介紹半導體工廠廢氣處理方法。

2.1 酸（suān）性、堿性氣體處理（lǐ）方法

酸性廢氣處理方法是采用“堿液噴淋塔”進行處（chù）理，以10%的（de）氫氧（yǎng）化鈉溶（róng）液（yè）為吸收液。堿性廢氣處理（lǐ）方法是采用“酸液噴淋塔”進行處（chù）理，以（yǐ）10%的硫酸溶液為吸收（shōu）液（yè）。酸性、堿性廢氣洗滌淨化法，應（yīng）用相當普遍，具有運行穩定，處理效果好，投資少，處理（lǐ）費用（yòng）低等優點。

2.2 有機廢氣處理方法

（1）活性炭（tàn）吸附法

活性炭吸（xī）附法主（zhǔ）要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、矽膠、分子篩等）來處理（lǐ）有機廢氣，這樣（yàng）就能夠（gòu）通過化學鍵力或（huò）者是分子引力（lì）充分吸附有害成分，並（bìng）且將其吸附在（zài）吸（xī）附劑的表麵，從（cóng）而達（dá）到淨化有機廢氣的目的。吸附法目前（qián）主要應（yīng）用於（yú）大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆（kē）粒物、無粘性物、常溫的低濃度有機廢氣淨（jìng）化處理。

活性炭淨化率高（gāo）（活（huó）性（xìng）炭（tàn）吸附可達到90%以上），實用遍及，操縱簡單（dān），投資低。在吸附飽（bǎo）和以（yǐ）後需要（yào）更（gèng）換新的活性炭，更換活性炭需要費用，替換下來的飽和以後的活性炭也是需要找專業人員進行危廢處理（lǐ），運行（háng）費用高。

（2）燃（rán）燒法

燃燒法隻在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用於各類（lèi）有機廢（fèi）氣，可以分為（wéi）直接燃燒、熱力燃燒（shāo）和催化燃燒。

排放（fàng）濃度大於5000mg/m³ 的高濃度廢（fèi）氣（qì）一般采用直接燃燒法，該方法將VOCs廢氣作為燃料進行燃燒，燃燒（shāo）溫度一般控製在1100℃，處理效率高，可（kě）以達到95％一99％。

熱力燃燒法適合於（yú）處（chù）理濃度在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力燃燒（shāo）法，廢氣中VOCs濃度較低，需要借助其（qí）他燃料或助燃氣體，熱力（lì）燃（rán）燒所需的溫度較直（zhí）接燃燒低，大約為540—820℃。燃燒法處（chù）理有機廢氣處（chù）理效率高，但有機廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接外排會導致二次汙染。

通（tōng）過熱力燃燒或者催化燃燒法處理（lǐ）有機廢氣，其淨化率是比較高的，但是其投資運營成本（běn）極高。因廢（fèi）氣（qì）排放的點多且分散，很難實現集中收集。燃燒（shāo）裝置需要多套且需要很大的占（zhàn）地麵（miàn）積。熱力燃燒比較（jiào）適合（hé）24小時（shí）連（lián）續不斷運行且濃度較高而穩定的廢氣工（gōng）況，不適（shì）合間斷性的生產產線工況。催化燃燒的投資和運營費用相對熱力燃燒較低，但（dàn）淨化效率也相對較（jiào）低一些；但貴金屬催（cuī）化劑容易因為廢氣中的雜質（如硫化物）等造成中毒失效，而更換催（cuī）化劑的（de）費用很高；同時對廢氣進氣條件的控製非常嚴格，否則會造成催化燃燒室堵塞而引起（qǐ）安全事故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法利用高能UV紫外線光（guāng）束分解空氣中的氧分子產生遊離氧（yǎng）（即活性氧），因遊離氧所攜帶正負電子（zǐ）不平衡所以需與氧分子結（jié）合，進而產生（shēng）臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有（yǒu）機廢氣、惡臭（chòu）氣體物質降（jiàng）解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨化法具有高效處理效率，可達到95%以上（shàng）；適（shì）應性（xìng）強，可（kě）適應中低（dī）濃度，大氣量，不同有機廢（fèi）氣以及惡臭氣體物質的淨化處理；產品性能穩定，運（yùn）行穩（wěn）定可靠，每天可24小時連續工作；運行成本低，設備（bèi）耗能低，無需專（zhuān）人管理與維護，隻需作（zuò）定期檢查。UV光解法因采用光解原理，模塊（kuài）采取隔爆處理，消除了安全隱患，防（fáng）火、防爆、防腐蝕性能高（gāo），設備性（xìng）能（néng）安全穩定，特別適用於化工、製藥等防爆要求高的行業。

以上關於半導體（tǐ）工廠廢氣處理（lǐ）方法介紹，希望可以幫到您，其實對（duì）於半導體工廠廢氣處理（lǐ），一般（bān）是需要根據廢氣的濃度、產（chǎn）生量、廢氣（qì）成分、如何收集等（děng）方麵進（jìn）行設計收集處理。如果您有半導體工廠（chǎng）廢氣需要（yào）淨化處理，可以隨時撥打400 808 2272電話，谘詢天浩洋環保,為您提供半（bàn）導（dǎo）體工廠廢氣處（chù）理方案及設備。