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低溫等(děng)離(lí)子除臭設備

低溫等離子除(chú)臭(chòu)設備(bèi)

低(dī)溫等(děng)離(lí)子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的(de)的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍(wéi)

產品概述 Product description

產品概(gài)述

低溫等離子除臭設(shè)備(bèi)是利用(yòng)這些高能(néng)電子、自由基等活性粒(lì)子(zǐ)和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設(shè)備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣(qì)。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵(jiàn)能(néng)較弱,約束力較小。很容易被擊穿(chuān)化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂(liè),生成強氧化(huà)基團羥基、臭氧分子等。這些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充分接觸氧(yǎng)化,加快反應進程。整(zhěng)個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效(xiào)率非常高。

等離(lí)子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子鍵斷(duàn)裂重組,使難處理的汙染物降解為(wéi)較易處理的低碳汙染物。








等(děng)離(lí)子體(tǐ)化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先(xiān)從電場獲得能量,通過激發或電離將(jiāng)能量轉移到汙染物分子中去,那些(xiē)獲得能量的汙染物分子被(bèi)激發,同時有(yǒu)部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團(tuán)。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與(yǔ)活性基團之(zhī)間相互碰撞後生(shēng)成穩定產物和熱(rè)。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣(qì)等電子親和力較強的物質俘獲,成為負(fù)離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻(zǔ)擋放電產生(shēng)的低(dī)溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所(suǒ)有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣(qì)速(sù)限製(zhì),氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了(le)設備腐蝕問題;

  • 04

    隻(zhī)需用電,操作簡(jiǎn)單,無(wú)需派專職(zhí)人員看(kàn)守,基本不占用人(rén)工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市(shì)政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造(zào)紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備(bèi)適用範圍

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