1.集成電路廢氣（qì）簡述

現代社會已進（jìn）入（rù）以微電子技術為核（hé）心（xīn）的信息（xī）時代，信息產（chǎn）業已經成為現代經濟的重要支柱產業。微電子技術（shù）和微電子工業的代表是集成電路，而芯片作為集成電路核部件，隨著（zhe）信息產業的迅速發展，通訊設備、網絡設備和個人新算機需求（qiú）持續增長，大大促進了集（jí）成電路芯片市場的擴大。但是集（jí）成電路芯（xīn）片在製造生產過程產生酸性氣體、堿性氣體、有機廢（fèi）氣等廢氣汙染物，這些汙染物如果不（bú）經過處理而排放會對環（huán）境和人身體健康產生危害，為了減少（shǎo）大（dà）氣汙染、淨化空氣達標排放，因此，需要對（duì）集成電路芯片（piàn）廢氣進行淨化處理後達標排放。

2.集成電路（lù）芯片廢氣處理（lǐ）方法

集成電路（lù）芯片製造生（shēng）產過程產生廢氣主要為酸性氣體、堿性氣體、有（yǒu）機廢氣等（děng）廢氣汙染物。酸性氣體處（chù）理方法采用堿液噴淋法即可處理，堿性（xìng）氣體處理采用酸液噴淋（lín）法處理，然而對於有機廢氣處理方法有很多種，常見主要有（yǒu）活性炭吸附法、燃（rán）燒法、UV光解淨化（huà）法，下麵（miàn）天（tiān）浩洋環保小編詳細介紹集成電路芯片廢氣處理方法。

2.1 酸性、堿性（xìng）氣體（tǐ）處理方法

酸性廢氣處理方法是采用“堿液噴淋塔”進行處理，以10%的氫氧化鈉溶液（yè）為吸收液。堿性廢氣處理方法是采用“酸液噴淋塔”進行處理，以10%的硫酸溶液為吸收液。酸性、堿性廢氣洗滌淨化（huà）法，在電（diàn）子（zǐ）行（háng）業（yè）生產中應用相當普遍，具有運（yùn）行穩定，處理效果好，投資少，處理費用低等優點。

2.2有機廢氣（qì）處（chù）理方法

（1）活性炭吸附法

活性炭吸附法主（zhǔ）要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、矽膠、分子篩等）來處理有機（jī）廢氣，這樣就（jiù）能夠通過化學（xué）鍵力或者是分子引力充分吸附有害成分，並且將其吸附在吸附劑的（de）表麵，從而達到淨化有機廢氣的目的。吸附法目前主要應（yīng）用於大（dà）風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物、無粘性物、常溫（wēn）的低濃（nóng）度有機廢氣（qì）淨化處理。

活性炭淨化率高（活性炭吸附（fù）可達到90%以上），實（shí）用遍及，操縱簡單，投資低。在吸附（fù）飽和以後（hòu）需要更（gèng）換新的活性炭，更換活性炭需要費用，替換下來的飽和以後的（de）活性炭也（yě）是需要找專業人員進行危廢處理，運（yùn）行費（fèi）用高。

（2）燃燒法

燃燒法隻在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全（quán）燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用於各類有機廢（fèi）氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化（huà）燃燒。

排（pái）放（fàng）濃度（dù）大（dà）於5000mg/m³ 的高濃度廢氣一般采用直接燃燒法，該方法（fǎ）將VOCs廢（fèi）氣作為燃（rán）料進行燃燒，燃燒溫度一般控（kòng）製（zhì）在1100℃，處理（lǐ）效率高，可以（yǐ）達到95％一99％。

熱力燃燒（shāo）法適合於處理濃（nóng）度在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力（lì）燃燒（shāo）法，廢氣中VOCs濃度較低，需要（yào）借助其他燃料或助燃氣體，熱力燃燒所需的（de）溫度較直接燃燒（shāo）低，大約為540—820℃。燃燒法處理VOCs廢氣處理效率高，但VOCs廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接外排會導致二次汙染。

通過熱力燃燒或者催（cuī）化燃燒法處理有機廢氣，其淨（jìng）化率是比較高的，但是其投資（zī）運營成本極高。因廢氣排放的點（diǎn）多且分散，很難實現（xiàn）集中收集。燃燒裝置需（xū）要多套且需要很大（dà）的占地麵積。熱力燃燒比較適合（hé）24小時連續不斷運行（háng）且濃（nóng）度較高而穩定的廢氣工況，不適合間斷性的生產產線工況（kuàng）。催化燃燒的投資和運營（yíng）費用相（xiàng）對熱力燃燒較低（dī），但淨化效率也相（xiàng）對較低一些；但貴金屬（shǔ）催化劑容易因為廢氣中的雜質（如硫化物）等（děng）造成中毒失效，而更換催化劑的費用很高；同時對廢氣進氣條件的控製非常嚴（yán）格（gé），否（fǒu）則會造成催化燃燒室堵塞而引起（qǐ）安全事故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法利用高能UV紫外線（xiàn）光束分解空氣中的（de）氧（yǎng）分子產生遊離氧（即活性氧），因遊離氧所（suǒ）攜帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產（chǎn）生臭氧，臭氧具有（yǒu）很強的氧化性，通過臭（chòu）氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有（yǒu）機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成（chéng）低分子化（huà）合物、CO2和H2O。

UV光解淨化法具有高效處理效（xiào）率，可達到95%以上；適應性強，可適應中低濃度，大氣量，不同有（yǒu）機廢氣以及惡（è）臭氣（qì）體物質的（de）淨化處理（lǐ）；產品性能穩定，運行穩定可靠，每天可24小時連續工作；運行成本低，設備耗能低，無需專人管理與維護，隻需作定期檢查。UV光解（jiě）法因采用光解原理，模塊采取隔爆（bào）處（chù）理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐（fǔ）蝕性（xìng）能高，設備性能安全穩定，特別（bié）適用於化工、製藥等（děng）防爆要求（qiú）高的行業。

以上關於（yú）集成電路芯片廢氣處（chù）理方法介（jiè）紹，希（xī）望可以幫到您，其實對於集成電路芯片廢（fèi）氣處理，一般（bān）是需要根據廢氣（qì）的濃度、產生量、廢氣成分（fèn）、如何收（shōu）集等方麵進行設計收集處理。如果您有集成電路芯片廢氣需要淨（jìng）化處理，可以隨（suí）時撥打400 808 2272電話，谘詢天浩洋環保,為您提供集成電路芯片（piàn）廢氣處理方案及設備。